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Akbar Jalaludin Khan, Muhammad Firdaus
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1
New Submicron Low Gate Leakage In(0.52)Al(0.48)As-In(0.7)Ga(0.3)As pHEMT for Low-Noise Applications
por
Packeer Mohamed, Mohamed Fauzi
,
Mohamed Omar, Mohamad Faiz
,
Akbar Jalaludin Khan, Muhammad Firdaus
,
Ghazali, Nor Azlin
,
Hairi, Mohd Hendra
,
Falina, Shaili
,
Samsol Baharin, Mohd Syamsul Nasyriq
Publicado 2021
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