Comparison of impurity defect structures formed by ion implantations in amorphous and crystalline silicon

Detalles Bibliográficos
Autores principales: Weyer, G, Damgaard, S, Petersen, J W, Heinemeier, J
Lenguaje:eng
Publicado: 1982
Materias:
Other Fields of Physics
Acceso en línea:https://dx.doi.org/10.1016/0167-5087(82)90250-2
http://cds.cern.ch/record/142454
Descripción
Descripción no disponible.

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