Exposure: from snapshots to great shots

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Detalles Bibliográficos
Autor principal: Revell, Jeff
Lenguaje:eng
Publicado: Peachpit Press 2011
Materias:
Computing and Computers
Acceso en línea:http://cds.cern.ch/record/1512583

Internet

http://cds.cern.ch/record/1512583

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