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Fundamental electron interactions with plasma processing gases
Autores principales: | Christophorou, Loucas G, Olthoff, James K |
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Lenguaje: | eng |
Publicado: |
Springer
2004
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Materias: | |
Acceso en línea: | https://dx.doi.org/10.1007/978-1-4419-8971-0 http://cds.cern.ch/record/1622600 |
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