Plasma technology: fundamentals and applications

Detalles Bibliográficos
Autores principales: Capitelli, Mario, Gorse, Claudine
Lenguaje:eng
Publicado: Springer 1992
Materias:
General Theoretical Physics
Acceso en línea:https://dx.doi.org/10.1007/978-1-4615-3400-6
http://cds.cern.ch/record/1626356
Descripción
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