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International Symposium on Photoelasticity
Autores principales: | , |
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Lenguaje: | eng |
Publicado: |
Springer
1986
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Materias: | |
Acceso en línea: | https://dx.doi.org/10.1007/978-4-431-68039-0 http://cds.cern.ch/record/1627279 |
Descripción no disponible. |