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Modeling of chemical vapor deposition of tungsten films
| Autores principales: | , |
|---|---|
| Lenguaje: | eng |
| Publicado: |
Springer
1993
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| Materias: | |
| Acceso en línea: | https://dx.doi.org/10.1007/978-3-0348-7741-1 http://cds.cern.ch/record/1667145 |