Simulation of deposition processes with PECVD apparatus

Detalles Bibliográficos
Autores principales: Geiser, Juergen, Arab, Meraa
Lenguaje:eng
Publicado: Nova Science Publishers 2012
Materias:
Engineering
Acceso en línea:http://cds.cern.ch/record/2664736
Descripción
Descripción no disponible.

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