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Annealing of damage in GaAs and InP after implantation of Cd and In

Detalles Bibliográficos
Autores principales: Pfeiffer, Wolfgang, Deicher, M, Kalish, R, Keller, R, Maegerle, R, Moriya, N, Pross, P, Skudlik, H, Wichert, T, Wolf, H
Lenguaje:eng
Publicado: 1992
Materias:
Acceso en línea:http://cds.cern.ch/record/286735