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Multicusp sources for ion beam lithography applications

Detalles Bibliográficos
Autores principales: Leung, K N, Herz, P, Kunkel, W B, Lee, Y, Perkins, L, Pickard, D S, Sarstedt, M, Weber, M, Williams, M D
Lenguaje:eng
Publicado: 1995
Materias:
Acceso en línea:http://cds.cern.ch/record/289020