Multicusp Ion Source for Ion Projection Lithography

Detalles Bibliográficos
Autores principales: Lee, Y, Leung, K N, Williams, M D, Bruenger, W H, Fallmann, W, Löschner, H, Stengl, G
Lenguaje:eng
Publicado: 1999
Materias:
Accelerators and Storage Rings
Acceso en línea:http://cds.cern.ch/record/553792

Internet

http://cds.cern.ch/record/553792

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