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Multicusp Ion Source for Ion Projection Lithography
Autores principales: | Lee, Y, Leung, K N, Williams, M D, Bruenger, W H, Fallmann, W, Löschner, H, Stengl, G |
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Lenguaje: | eng |
Publicado: |
1999
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Materias: | |
Acceso en línea: | http://cds.cern.ch/record/553792 |
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