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Handbook of physical vapor deposition (PVD) processing: film formation, adhesion, surface preparation and contamination control
| Autor principal: | |
|---|---|
| Lenguaje: | eng |
| Publicado: |
Noyes
1998
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| Materias: | |
| Acceso en línea: | http://cds.cern.ch/record/612995 |
| Descripción no disponible. |