Behaviour Of Gas Conditions During Vacuum Arc Discharges Used For Deposition Of Thin Films

Detalles Bibliográficos
Autores principales: Strzyzewski, P, Catani, L, Cianchi, A, Langner, J, Lorkiewicz, J, Mirowski, R, Russo, R, Sadowski, M, Tazzari, S, Witkowski, J
Lenguaje:eng
Publicado: 2006
Materias:
XX
Acceso en línea:http://cds.cern.ch/record/938414
Descripción
Descripción no disponible.

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