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65 nm Technology for HEP: Status and Perspective
Autor principal: | |
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Lenguaje: | eng |
Publicado: |
SISSA
2015
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Materias: | |
Acceso en línea: | https://dx.doi.org/10.22323/1.227.0043 http://cds.cern.ch/record/2159162 |
Descripción no disponible. |