Editorial: Fitting Psychometric Models: Issues and New Developments

Detalles Bibliográficos
Autor principal: Sheng, Yanyan
Formato: Online Artículo Texto
Lenguaje:English
Publicado: Frontiers Media S.A. 2017
Materias:
Psychology
Acceso en línea:https://www.ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC5447066/
https://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/28611708
http://dx.doi.org/10.3389/fpsyg.2017.00856

Internet

https://www.ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC5447066/
https://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/28611708
http://dx.doi.org/10.3389/fpsyg.2017.00856

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