Congratulatory remarks for the 50th volume of Journal of Periodontal & Implant Science

Detalles Bibliográficos
Autores principales: Shin, Seung-Yun, Park, Jun-Beom, Yun, Jeong-Ho, Park, Shin-Young
Formato: Online Artículo Texto
Lenguaje:English
Publicado: Korean Academy of Periodontology 2020
Materias:
Editorial
Acceso en línea:https://www.ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC7040441/
https://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/32128268
http://dx.doi.org/10.5051/jpis.2020.50.1.1

Internet

https://www.ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC7040441/
https://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/32128268
http://dx.doi.org/10.5051/jpis.2020.50.1.1

Ejemplares similares