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Benefits and obstacles of telemetric ICP monitoring

Detalles Bibliográficos
Autores principales: Oertel, Joachim M. K., Huelser, Matthias J. M.
Formato: Online Artículo Texto
Lenguaje:English
Publicado: Springer Vienna 2021
Materias:
Acceso en línea:https://www.ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC7966137/
https://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/33550517
http://dx.doi.org/10.1007/s00701-021-04730-5

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