Reduction Only in Complex Device Implant Rates During COVID-19 Lockdown

Detalles Bibliográficos
Autores principales: Swale, M., Cehic, D., Schwarz, N., Eccleston, D., O'Donnell, D.
Formato: Online Artículo Texto
Lenguaje:English
Publicado: Published by Elsevier Ltd. 2022
Materias:
Article
Acceso en línea:https://www.ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC9345545/
http://dx.doi.org/10.1016/j.hlc.2022.06.188
Descripción
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