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2161por Zhang, Mingxin, Zhang, Cong, Yang, Yahan, Ren, Hang, Zhang, Junmo, Zhao, Xiaoli, Tong, Yanhong, Tang, Qingxin, Liu, Yichun“…Scarcity of the antisolvent polymer dielectrics and their poor stability have significantly prevented solution-processed ultraflexible organic transistors from low-temperature, large-scale production for applications in low-cost skin-inspired electronics. …”
Publicado 2021
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2162por Romanov, Roman I., Kozodaev, Maxim G., Chernikova, Anna G., Zabrosaev, Ivan V., Chouprik, Anastasia A., Zarubin, Sergey S., Novikov, Sergey M., Volkov, Valentyn S., Markeev, Andrey M.Enlace del recurso
Publicado 2021
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2163“…The reliability instability of inhomogeneous Schottky contact behaviors of Ni/Au and Pt/Ti/Pt/Au gate contacts on AlGaN/GaN high-electron-mobility transistors (HEMTs) was investigated via off-state stress and temperature. …”
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2164por Simanullang, Marolop Dapot Krisman, Wisna, G. Bimananda M., Usami, Koichi, Oda, Shunri“…Catalyst removal is necessary to avoid catalyst melting during temperature increase prior to a-Si shell deposition. Field effect transistors based on Ge-core/a-Si-shell nanowires exhibited p-channel depletion-mode characteristics as a result of free hole accumulation in the Ge channel. …”
Publicado 2020
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2165“…A metal-oxide-semiconductor high-electron-mobility transistor (MOS-HEMT) is proposed based on using a Al(2)O(3)/ZrO(2) stacked layer on conventional AlGaN/GaN HEMT to suppress the gate leakage current, decrease flicker noise, increase high-frequency performance, improve power performance, and enhance the stability after thermal stress or time stress. …”
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2167por Ghoudi, A., Ben Brahim, Kh., Ghalla, H., Lhoste, J., Auguste, S., Khirouni, K., Aydi, A., Oueslati, A.“…These are critical characteristics that qualify the performance of optoelectronic devices, particularly field-effect transistor components (FETs). Here, the hybrid compound 2-amino-5-picoline tetrachloroferrate(iii) (2A5PFeCl(4)) was synthesised by using the slow evaporation solution growth method at room temperature. …”
Publicado 2023
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2168por Al-Mohammed, Huda Ibrahim“…Thermoluminescent dosimeters (TLDs) and the OneDose(™) metal oxide semiconductor field effect transistor (MOSFET) detectors are used during treatment delivery to measure the radiation dose and compare it with the target prescribed dose. …”
Publicado 2011
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2169“…The Front Cover picture shows an electrical bioassay for the label‐free and highly‐sensitive detection of a histidine‐rich protein (serum albumin) using an organic filed‐effect transistor (an OFET) modified with a Ni(II)‐trinitriloacetic acid monolayer (Ni(II)‐nta). …”
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2170por Kanaki, Toshiki, Yamasaki, Hiroki, Koyama, Tomohiro, Chiba, Daichi, Ohya, Shinobu, Tanaka, Masaaki“…A vertical spin metal-oxide-semiconductor field-effect transistor (spin MOSFET) is a promising low-power device for the post scaling era. …”
Publicado 2018
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2171“…Electrical characteristics of amorphous In-Ga-Zn-O (a-IGZO) thin-film transistors (TFTs) are compared by using O(2) plasma-enhanced atomic layer deposition Al(2)O(3) dielectrics at different temperatures. …”
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2172por Ishida, Takumi, Sawanaka, Yuta, Toyama, Ryota, Ji, Zhenfei, Mori, Hiroki, Nishihara, Yasushi“…The results obtained in this study disclose the effect of alkyl chains introduced onto the molecule on transistor characteristics.…”
Publicado 2020
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2173“…Forbes takes a critical view of our paper on nanoscale vacuum channel transistors (NVCTs), arguing mainly about the weaknesses in the theory of field electron emission. …”
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2174por Brouillard, Mélanie, Bercu, Nicolas, Zschieschang, Ute, Simonetti, Olivier, Mittapalli, Rakesh, Klauk, Hagen, Giraudet, Louis“…De-embedding the measured profile from the system response is required for various applications, such as contact characterization of thin-film transistors, or local longitudinal electric field measurements. …”
Publicado 2022
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2175por Forbes, Richard G.“…These comments aim to correct some apparent weaknesses in the theory of field electron emission given in a recent paper about nanoscale vacuum channel transistors, and to improve the presentation of this theory. …”
Publicado 2021
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2176por Kim, Donguk, Kim, Je-Hyuk, Choi, Woo Sik, Yang, Tae Jun, Jang, Jun Tae, Belmonte, Attilio, Rassoul, Nouredine, Subhechha, Subhali, Delhougne, Romain, Kar, Gouri Sankar, Lee, Wonsok, Cho, Min Hee, Ha, Daewon, Kim, Dae Hwan“…Amorphous oxide semiconductor (AOS) field-effect transistors (FETs) have been integrated with complementary metal-oxide-semiconductor (CMOS) circuitry in the back end of line (BEOL) CMOS process; they are promising devices creating new and various functionalities. …”
Publicado 2022
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2177“…The effects of barrier layer thickness, Al component of barrier layer, and passivation layer thickness of high-resistance Si (111)-based AlGaN/GaN heterojunction epitaxy on the knee-point voltage (V(knee)), saturation current density (I(d-sat)), and cut-off frequency (f(t)) of its high electron mobility transistor (HEMT) are simulated and analyzed. A novel optimization factor OPTIM is proposed by considering the various performance parameters of the device to reduce the V(knee) and improve the I(d-sat) on the premise of ensuring the f(t). …”
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2178
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2179por Chen, Pin-Guang, Chen, Kuan-Ting, Tang, Ming, Wang, Zheng-Ying, Chou, Yu-Chen, Lee, Min-Hung“…InAlN/Al/GaN high electron mobility transistors (HEMTs) directly on Si with dynamic threshold voltage for steep subthreshold slope (<60 mV/dec) are demonstrated in this study, and attributed to displacement charge transition effects. …”
Publicado 2018
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2180“…In this work, we investigated the time-dependent dielectric breakdown (TDDB) characteristics of normally-off AlGaN/GaN gate-recessed metal–insulator–semiconductor (MIS) heterostructure field effect transistors (HFETs) submitted to proton irradiation. …”
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