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1401por Montesi, M.C., Lauria, A., Alexandrov, A., Solestizi, L. Alunni, Giovanni, Ambrosi, Argirò, S., Diaz, R., Bartosik, N., Battistoni, G., Belcari, N., Bellinzona, E., Bianucci, S., Biondi, S., Bisogni, M.G., Bruni, G., Camarlinghi, N., Carra, P., Cerello, P., Ciarrocchi, E., Clozza, A., Colombi, S., Del Guerra, A., De Simoni, M., Crescenzo, A. Di, Donetti, M., Dong, Y., Durante, M., Embriaco, A., Emde, M., Faccini, R., Ferrero, V., Ferroni, F., Fiandrini, E., Finck, C., Fiorina, E., Fischetti, M., Francesconi, M., Franchini, M., Galati, G., Galli, L., Garbini, M., Gentile, V., Giraudo, G., Hetzel, R., Iarocci, E., Ionica, M., Kanxheri, K., Kraan, A. C., Lante, V., La Tessa, C., Lopez Torres, E., Marafini, M., Mattei, I., Mengarelli, A., Mirabelli, R., Moggi, A., Morone, M.C., Morrocchi, M., Muraro, S., Narici, L., Pastore, A., Pastrone, N., Patera, V., Pennazio, F., Placidi, P., Pullia, M., Raffaelli, F., Ramello, L., Ridolfi, R., Rosso, V., Rovituso, M., Sanelli, C., Sarti, A., Sartorelli, G., Sato, O., Savazzi, S., Scavarda, L., Schiavi, A., Schuy, C., Scifoni, E., Sciubba, A., Sécher, A., Selvi, M., Servoli, L., Silvestre, G., Sitta, M., Spighi, R., Spiriti, E., Sportelli, G., Stahl, A., Tioukov, V., Tomassini, S., Tommasino, F., Traini, G., Valle, S.M., Vanstalle, M., Villa, M., Weber, U., Zoccoli, A., Lellis, G. De“…In this study the performances in terms of charge separation of proton, helium and carbon particles, obtained on a batch of new emulsion films produced in Japan are reported.…”
Publicado 2019
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1411por Calatroni, Sergio, Amorosi, S, Anderle, M, Benvenuti, Cristoforo, Carver, J, Chiggiato, P, Neupert, H, Vollenberg, W“…Discharge gas trapping in thin films produced by sputtering is known to be due to high energy neutrals bouncing back from the cathode. …”
Publicado 1999
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1417por Prodromides, A E“…XRD measurements prove that depending on their composition, the TiZrV coatings can be grouped into two families which are sharply separated with respect to their grain size: polycrystalline films, with grain size above 100 nm and nanocrystalline films with grain size below 5 nm. …”
Publicado 2002
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1418por Calatroni, S, Benvenuti, Cristoforo, Carver, J, Chiggiato, P, Clair, S, Neupert, H, Vollenberg, W“…New data on the amount of sputter gas implanted in thin films are presented, complementing the results reported in the note CERN-EST-99-005-SM, published in Vacuum, Vol. 60, 1-2 (2001) Pp. 89-94. …”
Publicado 2003
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1419por Osuji, R U“…X-ray analysis confirmed the successful deposition of CdSe and CdS thin films. Our grown CdSe film thickness ranged from 0.10 $\mu$m. to 0.80 $\pm$ 0.01 $\mu$m and the CdS film thickness ranged from 0.10 $\mu$m to 1.00 $\pm$ 0.01 $\mu$m. …”
Publicado 2002
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