Ion implantation in semiconductors: silicon and germanium

Detalles Bibliográficos
Autores principales: Mayer, James W, Davies, John A, Eriksson, Lennart
Lenguaje:eng
Publicado: Academic Press 1970
Materias:
Engineering
Acceso en línea:http://cds.cern.ch/record/100622

Internet

http://cds.cern.ch/record/100622

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