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Particle image velocimetry: progress towards industrial application

Detalles Bibliográficos
Autores principales: Stanislas, M, Kompenhans, J, Westerweel, J
Lenguaje:eng
Publicado: Springer 2000
Materias:
Acceso en línea:https://dx.doi.org/10.1007/978-94-017-2543-9
http://cds.cern.ch/record/1629233

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