Plasma etching processes for interconnect realization in VLSI

Detalles Bibliográficos
Autor principal: Posseme, Nicolas
Lenguaje:eng
Publicado: Elsevier Science 2015
Materias:
Engineering
Acceso en línea:http://cds.cern.ch/record/2123255

Internet

http://cds.cern.ch/record/2123255

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