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TID Tolerance of commercial 130nm CMOS Technologies for HEP experiments
Autor principal: | |
---|---|
Lenguaje: | eng |
Publicado: |
2017
|
Materias: | |
Acceso en línea: | http://cds.cern.ch/record/2252791 |
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Publicado: |
2017
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Acceso en línea: | http://cds.cern.ch/record/2252791 |