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As-implanted lattice site of dopants in semiconductors
| Autores principales: | , , , , , , |
|---|---|
| Lenguaje: | eng |
| Publicado: |
1986
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| Materias: | |
| Acceso en línea: | https://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/MSF.10-12.1183 http://cds.cern.ch/record/264811 |