Molecular beam epitaxy: materials and device applications

Detalles Bibliográficos
Autores principales: Asahi, Hajime, Horikoshi, Yoshiji
Lenguaje:eng
Publicado: John Wiley & Sons 2019
Materias:
XX
Acceso en línea:http://cds.cern.ch/record/2668051

Internet

http://cds.cern.ch/record/2668051

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