Lattice site changes of ion implanted $^{8}$Li in Si studied by alpha emission

Detalles Bibliográficos
Autores principales: Wahl, U, Hofsäss, H C, Jahn, S G, Winter, S, Hoffmann, H, Recknagel, E
Lenguaje:eng
Publicado: 1992
Materias:
Other Fields of Physics
Acceso en línea:http://cds.cern.ch/record/286796

Internet

http://cds.cern.ch/record/286796

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