Application of a pulsed, RF-driven, multicusp source for low energy plasma immersion ion implantation

Detalles Bibliográficos
Autores principales: Wengrow, A B, Leung, K N, Perkins, L T, Pickard, D S, Rickard, M, Williams, M D, Tucker, M
Lenguaje:eng
Publicado: 1996
Materias:
Accelerators and Storage Rings
Acceso en línea:http://cds.cern.ch/record/311287

Internet

http://cds.cern.ch/record/311287

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