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Development of a 2.45-GHz ECR ion source for ion-implanter application

Detalles Bibliográficos
Autores principales: Sekiguchi, M, Matsushita, H, Jonoshita, I, Kabasawa, Mitsuaki
Lenguaje:eng
Publicado: 1997
Materias:
Acceso en línea:http://cds.cern.ch/record/347707