High laser damage threshold $HfO_{2}/SiO_{2}$ mirrors manufactured by sputtering process

Detalles Bibliográficos
Autores principales: Fornier, A, Bernardino, D, Iam, O, Néauport, J, Dufour, F, Schmitt, B, Mackowski, J M
Lenguaje:eng
Publicado: 1998
Materias:
Engineering
Acceso en línea:http://cds.cern.ch/record/369951

Internet

http://cds.cern.ch/record/369951

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