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Diffusion mechanisms and lattice locations of thermal-equilibrium defects in Si-Ge alloys

Detalles Bibliográficos
Autores principales: Strohm, A, Matics, S, Lyutovich, K, Frank, W, Kyllönen, V, Touboltsev, V, Räisänen, J, Correia, J G, Wahl, U
Lenguaje:eng
Publicado: 1999
Materias:
Acceso en línea:http://cds.cern.ch/record/408534