Self-Aligned Colloidal Lithography for Controllable and Tuneable Plasmonic Nanogaps

Detalles Bibliográficos
Autores principales: Ding, Tao, Herrmann, Lars O, de Nijs, Bart, Benz, Felix, Baumberg, Jeremy J
Formato: Online Artículo Texto
Lenguaje:English
Publicado: BlackWell Publishing Ltd 2015
Materias:
Communications
Acceso en línea:https://www.ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC4515099/
https://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/25505000
http://dx.doi.org/10.1002/smll.201402639
Descripción
Sumario:

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