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Editorial: Molecular Basis of the Response of Photosynthetic Apparatus to Light and Temperature Stress
Autores principales: | , , |
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Formato: | Online Artículo Texto |
Lenguaje: | English |
Publicado: |
Frontiers Media S.A.
2017
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Materias: | |
Acceso en línea: | https://www.ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC5337488/ https://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/28321228 http://dx.doi.org/10.3389/fpls.2017.00288 |